Home
Kooperationspartner
Transferstelle
Strukturdaten
Fakultäten

Hochschule Würzburg-Schweinfurt

Boris Bittner


Anschrift:
Herr Prof. Dr. Boris Bittner
Hochschule Würzburg-Schweinfurt
FANG Fakultät Angewandte Natur- und Geisteswissenschaften
Straße:
Ignaz-Schön-Straße 11
Ort:
97421 Schweinfurt
Tel.:
+49 931 3511 - 8711
E-Mail:
boris.bittner@fhws.de
Website:
www.fhws.de

Leistungsprofil:
Praxisrelevante Forschungsgebiete:
  • mathematische Optimierung
  • Signal- und Bildverarbeitung (Fourieranalysis und Wavelets)
  • numerische Mathematik (insbesondere echtzeitkritische Algorithmen)
  • Stereolithographie
  • Systems Engineering



Publikationen:
  • u.a. [1] B. Bittner, H. Walter, M. Rösch, Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility, CN102165371, DE102008042356, EP2329321, JP4988066, KR20110047250, TW201019041, US8203696, WO10034674, KR20140002078, US2014176924, KR101426123, KR102014101891, TW000201506555, US000009052609, TW00000I480669 (2010)
  • [2] B. Bittner, Projection exposure apparatus with optimized adjustment capability, DE102010041528, US2013250266, WO12041589 (2012)
  • [3] J. Zellner, B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, R. Schneider, A. Schob, G. Rudolph, A. Gratzke, A. Moffat, Projection objective of a mcrolithographic projection exposure apparatus, WO13044936, TW201329645, US20140185024, KR20140089356 (2013)
  • [4] M. Weiß, N. Kerwien, M. Weiser, B. Bittner, N. Wabra, Chr. Schlichenmaier, W. Clauss, Reflective optical element for the EUV wavelength range, method for producing and correcting such an element, projection lens for microlithography comprising such an element, and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a projection lens, DE102011084117, WO13050199, CN103858055, KR20140084012, EP2764407, US020140307308 (2013)
  • [5] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, H. Wagner, C. Wald, R. Iliew, T. Schicketanz, T. Gruner, Projektionsobjektiv für EUV-Mikrolithographie, Folienelement und Verfahren zur Herstellung eines Projektionsobjektivs mit Folienelement, DE102012202057, WO13117343, TW201337324, US20140347721 (2013)
  • [6] B. Bittner, N. Wabra, M. von Hodenberg, S. Schneider, R. Schneider, R. Mack, System correction from long timescales, DE102012212758, WO14012643, KR102015032870, US20150160562 (2014)
  • [7] B. Bittner, N. Wabra, S. Schneider, R. Schneider, Method of operating a microlithographic projection apparatus, WO20150360002 (2015)




Zurück zur Liste
Falls dies ihr Profil ist, können Sie es hier nach dem Login bearbeiten.